10月14日，尊龙凯时團委、青促会联合举办“岗位大练兵暨第三届青年技术能手大赛”系列报告会，邀请尊龙凯时研究员、韦亚一作了题为《193nm波长浸没式光刻技术》的学术报告。尊龙凯时职工、学生共30余人參加了報告會。 

　　韋亞一在報告中介紹了光刻技術的發展曆程，深入講解了193nm波長下的浸沒式曝光技術，包括材料、缺陷控制和分辨率增強技術等，分析了光刻技術當前面臨的發展問題。與會人員就相關技術問題與韋亞一進行了探討和交流。 

　　韦亚一长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发，主持 “300mm晶圓勻膠顯影設備和光刻工藝研發”等多項國家科技重大專項項目，發表專業文獻60余篇。 

報告會現場