尊龙凯时 - 人生就是搏!

當前位置 首頁 科研工作 科技獎勵
獲獎题目:
獲獎编号: D02-2007-025
獲獎时间: 2008年12月
獲獎名称: 100nm高密度等離子刻蝕機研發與産業化
主要完成人: 赵晋荣、张伯旭、耿锦启、张建勇、李东三、王宝全、李 兵、孙 岩、张秀川、刘利坚、赵梦欣、南建辉、夏 威、白志民、徐 华
完成單位: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司、中國科學院微电子研究所、清华大学、北京大学
成果介紹:
獲獎类别: 北京市科學技術獎一等獎
獲獎等级:
授獎部門: 北京市人民政府
開始日期:
結束日期:
登記人:
中國科學院微电子研究所版权所有 邮编：100029
單位地址：北京市朝陽區北土城西路3號，電子郵件：webadmin@ime.ac.cn
京公網安備110402500036號，京ICP備05002781號-1